<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Exposure on UV Curing Area</title>
		<link>http://uv-curing-area.com/cs/tags/exposure/</link>
		<description>Recent content in Exposure on UV Curing Area</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-area.com/cs/tags/exposure/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Galliumová lampa pro expozici při štítkové tisku</title>
				<link>http://uv-curing-area.com/cs/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-area.com/cs/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-area.com/images/922aaf5f9a907f1d60ed6f8e999563af.png&#34; alt=&#34;Galliumová lampa pro expozici při štítkové tisku&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V provozu továrny nestačí mnoho k tomu, aby došlo ke zhoršení kvality expozice – stačí jen dotknout se krystalového obalu galiové lampy. Otisk prstu se okamžitě stane součástí povrchu lampy. Toto místo absorbuje UV záření a narušuje tak spektrální rozložení světla. Výsledkem je nerovnoměrná expozice, slabší vzájemné spojení částic v emulzi a také předčasný konec životnosti lampy – intenzita záření prudce klesá a doba provozu se zkracuje.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co je z technického hlediska důležité&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Galiové lampy určené k expozici obrazovek vyžadují přesně definovaný spektrální profil. Očekáváme silný výstup &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;kolem&lt;/a&gt; 365 nm s kontrolovaným poklesem směrem k 405 nm. Tento tvar je zvolen tak, aby odpovídal absorpčním pásmům běžných fotoiniciátorů – díky tomu se emulze &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;rychle&lt;/a&gt; spojuje, aniž by došlo k nadměrnému ztvrdnutí síťoviny. Výstup měříme jako maximální intenzitu záření (mW/cm²) a hustotu energie (mJ/cm²) v rovině expozice. Dichroický povlak reflektoru je nastaven tak, aby udržel správnou rovnováhu vlnových délek.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
