http://uv-curing-area.com/cs/tags/obrazovka/ Recent content in Obrazovka on UV Curing Area Hugo cs Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800 http://uv-curing-area.com/cs/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/ Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800 http://uv-curing-area.com/cs/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/ <p><img src="http://uv-curing-area.com/images/922aaf5f9a907f1d60ed6f8e999563af.png" alt="Galliumová lampa pro expozici při štítkové tisku"></p> <p>V provozu továrny nestačí mnoho k tomu, aby došlo ke zhoršení kvality expozice – stačí jen dotknout se krystalového obalu galiové lampy. Otisk prstu se okamžitě stane součástí povrchu lampy. Toto místo absorbuje UV záření a narušuje tak spektrální rozložení světla. Výsledkem je nerovnoměrná expozice, slabší vzájemné spojení částic v emulzi a také předčasný konec životnosti lampy – intenzita záření prudce klesá a doba provozu se zkracuje.</p> <p><strong>Co je z technického hlediska důležité</strong><br> Galiové lampy určené k expozici obrazovek vyžadují přesně definovaný spektrální profil. Očekáváme silný výstup <a href="https://goldisgood.com">kolem</a> 365 nm s kontrolovaným poklesem směrem k 405 nm. Tento tvar je zvolen tak, aby odpovídal absorpčním pásmům běžných fotoiniciátorů – díky tomu se emulze <a href="https://o-yate.net">rychle</a> spojuje, aniž by došlo k nadměrnému ztvrdnutí síťoviny. Výstup měříme jako maximální intenzitu záření (mW/cm²) a hustotu energie (mJ/cm²) v rovině expozice. Dichroický povlak reflektoru je nastaven tak, aby udržel správnou rovnováhu vlnových délek.</p> http://uv-curing-area.com/cs/posts/uv-lamp-for-screen-printing/ Sun, 07 Jun 2026 06:15:43 +0800 http://uv-curing-area.com/cs/posts/uv-lamp-for-screen-printing/ <p><img src="http://uv-curing-area.com/images/4ef091ebd1d1ab3051c066137aa328dc.png" alt="UVA lampa pro sítotisk"></p> <p>Na výrobní hale je na linkách se sí<a href="https://o-yate.com">totiskem</a> už málo prostoru a cyklus se ještě zkracuje. Potřebujete větší průchodnost, ale prostor pro stroje nepřidá ani centimetr. Jediným rozumným krokem je upgrade lampy, která dodá více energie pro vytvrzování ve stejném prostoru.</p> <p><strong>Co je technicky důležité</strong><br> Vyvinuli jsme modulární UV lampový modul pro práci se sítotiskem, který zasahuje absorpční pásmo fotoiniciátoru stabilním spektrem rtuti s maximem na 365 nm. To umožňuje hluboké prosvícení silných vrstev inkoustu. Maximální irradiance na substrátu dosahuje 1200 mW/cm² a modul udržuje dávku 800 mJ/cm² při běžných rychlostech webu.<br> Reflektory využívají dichroický povlak k formování spektrálního výstupu a snížení IR tepelného zatížení, což pomáhá udržet teplotu substrátu v mezích u citlivých syntetik. Hlavu lampy lze instalovat do stávající mechanické konstrukce — kompaktní délka oblouku, standardní prostředky upevnění — takže ji lze přímo vložit do stávajících závěsů a stínění.</p>