http://uv-curing-area.com/he/tags/%D7%97%D7%A9%D7%99%D7%A4%D7%94/ Recent content in חשיפה on UV Curing Area Hugo he Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800 http://uv-curing-area.com/he/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/ Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800 http://uv-curing-area.com/he/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/ <p><img src="http://uv-curing-area.com/images/922aaf5f9a907f1d60ed6f8e999563af.png" alt="מנורת גליום לחשיפה בדפוס שקעי"></p> <p>בשטח הייצור, לא נדרש הרבה כדי לפגוע באיכות החשיפה – די במגע עם המעטפת הקוורץ של נורת הגליום. טביעת אצבע יוצרת שכבה שנשארת על המעטפת מיד לאחר החשיפה. שכבה זו סופגת אור UV באזורה, וכתוצאה מכך נפגעת התפלגות האור לאורך הקשת. התוצאה היא חשיפה לא אחידה, קשרים בין החומרים השונים חלשים יותר, והנורה נשרפת מוקדם יותר – עוצמת האור יורדת במהירות, ותוחלת החיים של הנורה קצרה יותר.</p> <p><strong>מה חשוב מבחינה טכנית?</strong> נורות גליום לחשיפת מסכים דורשות פרופיל ספקטרלי מדויק. יש צורך בפלט אור חזק באורך גל של 365 ננומטר, עם ירידה מבוקרת לכיוון 405 ננומטר. צורה זו נבחרה כדי לתאים את עצמה לטווחי הספיגה של החומרים הפוטואיניציאטוריים הנפוצים, כך שהחומרים יתקשרו זה עם זה במהירות, מבלי לגרום להתקשות יתר של החומר. אנו מודדים את עוצמת האור כעוצמה שיא (מיליאמפר/סמ²) וכגם את צפיפות האנרגיה (מיליג’ול/סמ²) במישור החשיפה. הציפוי הדיכרואיתי של המחזיר מותאם כדי לשמור על איזון האורכים.</p>