<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>420nm on UV Curing Area</title>
		<link>http://uv-curing-area.com/id/tags/420nm/</link>
		<description>Recent content in 420nm on UV Curing Area</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 03 Jun 2026 04:59:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-area.com/id/tags/420nm/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu UV galium 420nm</title>
				<link>http://uv-curing-area.com/id/posts/420nm-gallium-uv-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 04:59:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-area.com/id/posts/420nm-gallium-uv-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-area.com/images/202304ad6af0f8b478173f2775b1fe8a.png&#34; alt=&#34;Lampu UV galium 420nm&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di setiap percetakan, sistem curing UV adalah titik di mana kecepatan dan kualitas menemukan keseimbangan. Ketika tinta tidak mengering secara merata, Anda akan menghadapi masalah set-off, goresan, dan pengerjaan ulang yang secara diam-diam menggerus margin keuntungan. Lampu UV gallium 420nm membantu mengatasi masalah tersebut dengan mencocokkan puncak absorpsi fotoinisiator pada tinta offset, flexo, dan screen. Anda mendapatkan cross-linking yang dapat diprediksi tanpa merusak substrat.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di balik perangkat&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami membangun lampu ini di sekitar tabung busur yang &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;didoping&lt;/a&gt; gallium, &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;sehingga&lt;/a&gt; output spektralnya sempit dan terpusat pada 420nm. Panjang gelombang tersebut tepat mengenai fotoinisiator pada tinta berpigmen dan lapisan bening, sekaligus mengurangi UV gelombang pendek berlebih yang dapat menyebabkan substrat menguning dan menghasilkan ozon. Bergantung pada geometri reflektor, puncak iradiasi disetel antara 800–1200 mW/cm² pada bidang fokus. Ini memberikan densitas energi yang dibutuhkan—biasanya 300–600 mJ/cm²—untuk pengeringan penuh dalam satu kali lewat. Reflektor menggunakan lapisan dikroik untuk memantulkan gelombang curing kembali ke substrat dan membiarkan panas melewati, sehingga efisiensi lebih baik dan film tipis kurang mengalami deformasi.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
