Lampu gallium untuk proses eksposur dalam teknik sablon.

Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800

Di area produksi, tidak diperlukan upaya yang berlebihan untuk merusak kualitas eksposur yang konsisten—cukup sentuh saja lapisan kuarsa pada lampu galium tersebut. Jejak jari akan membentuk lapisan yang menempel di permukaan lampu begitu lampu tersebut dinyalakan. Lapisan tersebut akan menyerap sinar UV secara lokal, sehingga mengganggu distribusi spektrum cahaya. Akibatnya, eksposurnya menjadi tidak merata, proses pengikatan molekul-molekul dalam emulsi pun terhambat, dan umur pakai lampu pun berkurang. Intensitas cahaya menurun drastis, sehingga masa pakai lampu menjadi lebih singkat.

Lampu UV untuk sablon layar

Sun, 07 Jun 2026 06:15:43 +0800

Pada lantai produksi, ruang untuk lini screen sudah sangat terbatas, dan waktu siklus semakin ketat. Anda membutuhkan throughput lebih tinggi, tetapi area mesin tidak memberikan ruang tambahan. Satu-satunya langkah yang masuk akal adalah peningkatan lampu yang dapat menyalurkan energi penyembuhan lebih besar dalam jejak yang sama.
Apa yang penting secara teknis
Kami merancang modul lampu UV modular untuk pekerjaan screen yang menyasar pita serapan fotoinisiator dengan spektrum uap merkuri yang stabil, berpusat pada 365 nm. Ini memberikan penyembuhan dalam yang efektif pada lapisan tinta tebal. Iradiasi puncak pada substrat mencapai 1200 mW/cm², dan modul ini mempertahankan dosis 800 mJ/cm² pada kecepatan web yang umum.
Reflektor menggunakan lapisan dikroik untuk membentuk output spektral dan mengurangi beban panas IR, sehingga suhu substrat tetap terkendali pada bahan sintetis yang sensitif. Kepala lampu tetap dalam dimensi mekanis yang sama—panjang busur kompak, pemasangan standar—sehingga bisa dipasang langsung ke shutter dan pelindung yang sudah ada.
Mengapa ini efektif dalam praktik
Peningkatan ini dibuat dengan integrasi yang sederhana: tukar lampu, reflektor, dan kabel daya, lalu gunakan kembali optik dan pemasangan yang sudah ada. Dengan fluks foton lebih tinggi, kecepatan cetak dapat dinaikkan hingga 30% tanpa mengubah panjang pengering.
Kepadatan energi yang lebih tinggi juga meningkatkan ikatan silang pada tinta pigmen dan tinta tebal, yang mengurangi kekentalan permukaan dan mempercepat waktu penumpukan. Anda akan menggunakan energi lebih sedikit per unit karena waktu penyembuhan lebih pendek, dan masa pakai lampu dinilai sampai 2000 jam dengan penurunan output yang terkendali—persediaan suku cadang pun berkurang.
Hal yang perlu diperhatikan
Penyesuaian output spektral dengan kimia tinta tidak bisa diabaikan. Jika salah, permukaan akan mengering sementara bagian dalam tetap kurang terikat silang.
Iradiasi lebih tinggi berarti panas lebih banyak, jadi pastikan substrat dapat menahan suhu tersebut dan ventilasi memadai.
Instalasi membutuhkan kalibrasi ulang kurva kecepatan dan peta dosis di seluruh lebar cetak untuk menghindari overexposure di tepi. Lakukan kualifikasi singkat dengan pemasok tinta Anda untuk mengunci jendela proses.

Layar on UV Curing Area

Lampu gallium untuk proses eksposur dalam teknik sablon.

Lampu UV untuk sablon layar