<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Paparan; Eksposur on UV Curing Area</title>
		<link>http://uv-curing-area.com/id/tags/paparan-eksposur/</link>
		<description>Recent content in Paparan; Eksposur on UV Curing Area</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-area.com/id/tags/paparan-eksposur/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu gallium untuk proses eksposur dalam teknik sablon.</title>
				<link>http://uv-curing-area.com/id/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-area.com/id/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-area.com/images/922aaf5f9a907f1d60ed6f8e999563af.png&#34; alt=&#34;Lampu gallium untuk proses eksposur dalam teknik sablon.&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;produksi&lt;/a&gt;, tidak diperlukan upaya yang berlebihan untuk merusak kualitas eksposur yang konsisten—cukup sentuh saja lapisan kuarsa pada lampu galium tersebut. Jejak jari akan membentuk lapisan yang menempel di permukaan lampu begitu lampu tersebut dinyalakan. Lapisan tersebut akan menyerap sinar UV secara lokal, sehingga mengganggu distribusi spektrum cahaya. Akibatnya, eksposurnya menjadi tidak merata, proses pengikatan molekul-molekul dalam emulsi pun terhambat, dan umur pakai lampu pun berkurang. Intensitas cahaya menurun drastis, sehingga masa pakai lampu menjadi lebih singkat.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
