<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Gal on UV Curing Area</title>
		<link>http://uv-curing-area.com/pl/tags/gal/</link>
		<description>Recent content in Gal on UV Curing Area</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>pl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 03 Jun 2026 04:59:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-area.com/pl/tags/gal/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampa UV z azotkiem galu o długości fali 420 nm</title>
				<link>http://uv-curing-area.com/pl/posts/420nm-gallium-uv-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 04:59:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-area.com/pl/posts/420nm-gallium-uv-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-area.com/images/202304ad6af0f8b478173f2775b1fe8a.png&#34; alt=&#34;Lampa UV z azotkiem galu o długości fali 420 nm&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;W każdej drukarni system utwardzania UV to miejsce, gdzie szybkość i jakość znajdują równowagę. Gdy tusz nie utwardza się równomiernie, pojawia się problem odbić, zarysowań oraz przeróbek, które niepostrzeżenie zjadają marże. Lampa UV o długości fali 420 nm z &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;domieszk&lt;/a&gt;ą galu rozwiązuje ten problem, dopasowując się do szczytu absorpcji fotoinicjatorów w tuszach offsetowych, fleksograficznych i sitodrukowych. Zapewnia przewidywalne &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;sieciowanie&lt;/a&gt; bez przegrzewania podłoża.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co jest istotne „pod maską”&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Lampę budujemy wokół łuku w rurze z domieszką galu, dzięki czemu emisja spektralna jest wąska i skupiona na 420 nm. Ta długość fali trafia dokładnie w fotoinicjatory w tuszach pigmentowanych i powłokach bezbarwnych, jednocześnie ograniczając nadmiar krótkofalowego UV, który może powodować żółknięcie podłoży i generować ozon. W zależności od geometrii reflektora, szczytowa irradiancja jest regulowana w zakresie 800–1200 mW/cm² na płaszczyźnie ogniskowej. Dostarcza to gęstość energii wymaganą do pełnego utwardzenia w jednym przejściu, zwykle 300–600 mJ/cm². Reflektor wykorzystuje powłokę dichroiczną, która odbija fale utwardzające z powrotem na podłoże, a jednocześnie przepuszcza ciepło, co zwiększa efektywność i ogranicza odkształcenia cienkich powłok.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Lampa jodku galu do fotorezystu</title>
				<link>http://uv-curing-area.com/pl/posts/gallium-iodide-lamp-for-photoresist/</link>
				<pubDate>Wed, 27 May 2026 01:50:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-area.com/pl/posts/gallium-iodide-lamp-for-photoresist/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-area.com/images/b717d9f0742111373c1b4fa943a6ce46.png&#34; alt=&#34;Lampa jodku galu do fotorezystu&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;dlaczego-wciąż-wracamy-do-lamp-z-jodkiem-galu-do-fotorezystu&#34;&gt;Dlaczego wciąż wracamy do lamp z jodkiem galu do fotorezystu&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;Prawda jest taka: gdy wybieramy lampy UV do linii fotorezystu, za każdym razem wybieramy jodek galu. Dlaczego? Bo idealnie trafiają w pasmo 365 nm, zapewniając stabilną, wysoką intensywność. To optymalny zakres dla rezystu i-linii, dzięki czemu uzyskujesz powtarzalne krytyczne wymiary bez ryzyka uszkodzenia podłoża.&lt;br&gt;&#xA;I to nie tylko żarówka. To cały system — rurka, chemia wypełnienia, geometria łuku i interfejs statecznika — wszystko współpracuje razem. Efekt? Stała gęstość energii na płaszczyźnie wafla, dzień po dniu.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
