<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Отклонение on UV Curing Area</title>
		<link>http://uv-curing-area.com/ru/tags/%D0%BE%D1%82%D0%BA%D0%BB%D0%BE%D0%BD%D0%B5%D0%BD%D0%B8%D0%B5/</link>
		<description>Recent content in Отклонение on UV Curing Area</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 11:21:17 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-area.com/ru/tags/%D0%BE%D1%82%D0%BA%D0%BB%D0%BE%D0%BD%D0%B5%D0%BD%D0%B8%D0%B5/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>УФ лампа для галлиевых пластин в офсетной печати</title>
				<link>http://uv-curing-area.com/ru/posts/gallium-uv-lamp-for-offset-plate/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 11:21:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-area.com/ru/posts/gallium-uv-lamp-for-offset-plate/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-area.com/images/cdedc9aef862c6499fdc8917132fc533.png&#34; alt=&#34;УФ лампа для галлиевых пластин в офсетной печати&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производстве каждая потраченная впустую минута стоит денег, а неисправный источник света может привести к срыву всего процесса печати. Когда необходима мгновенная и надежная полимеризация для обработки офсетных пластин, спектральный состав излучения лампы имеет решающее значение. Это определяет скорость выполнения операций и возможность продолжения работы без перерывов.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что действительно важно с технической точки зрения&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы специально настраиваем спектральный состав ультрафиолетовых ламп для использования в процессе полимеризации офсетных пластин, чтобы он соответствовал спектру поглощения фотоинициаторов, применяемых в современных покрытиях пластин. Ртуть, добавленная в состав лампы, обеспечивает максимальную интенсивность излучения на длинах волн 365 нм и 385 нм – именно эти длины волн способствуют проникновению фотонов на достаточную глубину для полной полимеризации. Это не поверхностная полимеризация; происходит полная полимеризация на всей толщине пластины, что позволяет ей сохранять целостность от основы до поверхности. Мгновенная полимеризация и высокая интенсивность излучения позволяют избежать необходимости длительного времени экспозиции.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
