УФ лампа на галлии с длиной волны 420 нм

Wed, 03 Jun 2026 04:59:21 +0800

В любой типографии система УФ-отверждения — это место, где скорость и качество находят баланс. При неравномерном отверждении краски возникают проблемы с переносом, царапинами и необходимостью доработок, которые незаметно сокращают вашу маржу. УФ-лампа на 420 нм с галлиевым наполнением решает эту задачу, совпадая с пиком поглощения фотоинитиаторов в офсетных, флексографских и трафаретных красках. Вы получаете предсказуемое сшивание без перегрева подложки.

Что важно в конструкции
Лампа построена на основе дуговой трубки с легированием галлием, благодаря чему спектральный выход узконаправлен и сосредоточен на 420 нм. Эта длина волны точно воздействует на фотоинитиаторы в пигментированных красках и прозрачных лаках, снижая избыточное коротковолновое УФ-излучение, которое может желтить подложки и создавать озон. В зависимости от геометрии отражателя пиковая освещённость на фокусной плоскости регулируется в диапазоне 800–1200 мВт/см². Это обеспечивает необходимую плотность энергии — обычно 300–600 мДж/см² — для полного отверждения за один проход. Отражатель покрыт дихроическим слоем, который отражает волны отверждения обратно на подложку и пропускает тепло, повышая эффективность и уменьшая деформацию тонких пленок.

420 Нм on UV Curing Area

УФ лампа на галлии с длиной волны 420 нм