http://uv-curing-area.com/uk/tags/%D0%B5%D0%BA%D1%80%D0%B0%D0%BD/ Recent content in Екран on UV Curing Area Hugo uk Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800 http://uv-curing-area.com/uk/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/ Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800 http://uv-curing-area.com/uk/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/ <p><img src="http://uv-curing-area.com/images/922aaf5f9a907f1d60ed6f8e999563af.png" alt="Лампа з галійом для експозиції у технології шовкографії"></p> <p>На виробничій лінії достатньо незначного впливу, щоб порушити якість освітлення під час процесу експозиції – достатньо лише торкнутися кварцової оболонки лампи з галієм. Відбиток пальця стає „фільмом“, який залишається на поверхні лампи одразу після її увімкнення. Ця ділянка поглинає УФ-випромінювання, що призводить до зміни спектрального розподілу світла. Це призводить до нерівномірного освітлення, слабкішого зв’язування компонентів емульсії та прискореного завершення терміну служби лампи: інтенсивність випромінювання різко знижується, а термін служби скорочується.</p> <p><strong>Що має значення з технічної точки зору</strong><br> Лампи з галієм для процесу експозиції потребують точно контрольованого спектрального профілю. Необхідна сильна інтенсивність випромінювання при довжині хвилі 365 нм, з контрольованим зростанням інтенсивності ближче до 405 нм. Така форма спектру обрана для того, щоб вона відповідала діапазону поглинання поширених фотоініціаторів, що дозволяє швидко зв’язувати компоненти емульсії без їх надмірного затвердіння. Ми вимірюємо інтенсивність випромінювання у формі максимальної інтенсивності (мВт/см²) та енергетичну щільність (мДж/см²) на рівні площини експозиції. Дихроїчне покриття рефлектора налаштовується так, щоб зберігати баланс довжин хвиль.</p> http://uv-curing-area.com/uk/posts/uv-lamp-for-screen-printing/ Sun, 07 Jun 2026 06:15:43 +0800 http://uv-curing-area.com/uk/posts/uv-lamp-for-screen-printing/ <p><img src="http://uv-curing-area.com/images/4ef091ebd1d1ab3051c066137aa328dc.png" alt="УФ лампа для шовкографії"></p> <p>На виробничому майданчику лінії друку вже стискаються в просторі, а час циклу стає ще більш обмеженим. Вам потрібно більше продуктивності, але площа для машин не дозволяє розширити простір. Єдиний логічний крок — це оновлення лампи, яке забезпечує більше енергії для затвердіння в тому ж обсязі.</p> <p><strong>Що важливо з технічної точки зору</strong><br> Ми розробили модуль UV-лампи для роботи з сіткою, який потрапляє в область поглинання фотосенсибілізатора зі стабільним спектром ртутної пари, зосередженим на 365 нм. Це забезпечує глибоке затвердіння товстих шарів чорнила. Пікова іррадіація на підкладці досягає 1200 мВт/см², а модуль утримує 800 мДж/см² при типових швидкостях рулону.<br> Відбивачі використовують дихроїчне покриття для формування спектрального виходу та зменшення теплового навантаження IR, тому ви контролюєте температуру підкладки на чутливих синтетичних матеріалах. Головка лампи залишається в межах того ж механічного контуру — компактна довжина дуги, стандартне кріплення — тому вона безпосередньо підходить для існуючих заслінок і захисту.</p>