http://uv-curing-area.com/uk/tags/exposure/ Recent content in Exposure on UV Curing Area Hugo uk Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800 http://uv-curing-area.com/uk/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/ Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800 http://uv-curing-area.com/uk/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/ <p><img src="http://uv-curing-area.com/images/922aaf5f9a907f1d60ed6f8e999563af.png" alt="Лампа з галійом для експозиції у технології шовкографії"></p> <p>На виробничій лінії достатньо незначного впливу, щоб порушити якість освітлення під час процесу експозиції – достатньо лише торкнутися кварцової оболонки лампи з галієм. Відбиток пальця стає „фільмом“, який залишається на поверхні лампи одразу після її увімкнення. Ця ділянка поглинає УФ-випромінювання, що призводить до зміни спектрального розподілу світла. Це призводить до нерівномірного освітлення, слабкішого зв’язування компонентів емульсії та прискореного завершення терміну служби лампи: інтенсивність випромінювання різко знижується, а термін служби скорочується.</p> <p><strong>Що має значення з технічної точки зору</strong><br> Лампи з галієм для процесу експозиції потребують точно контрольованого спектрального профілю. Необхідна сильна інтенсивність випромінювання при довжині хвилі 365 нм, з контрольованим зростанням інтенсивності ближче до 405 нм. Така форма спектру обрана для того, щоб вона відповідала діапазону поглинання поширених фотоініціаторів, що дозволяє швидко зв’язувати компоненти емульсії без їх надмірного затвердіння. Ми вимірюємо інтенсивність випромінювання у формі максимальної інтенсивності (мВт/см²) та енергетичну щільність (мДж/см²) на рівні площини експозиції. Дихроїчне покриття рефлектора налаштовується так, щоб зберігати баланс довжин хвиль.</p>