<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Print on UV Curing Area</title>
		<link>http://uv-curing-area.com/uk/tags/print/</link>
		<description>Recent content in Print on UV Curing Area</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-area.com/uk/tags/print/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа з галійом для експозиції у технології шовкографії</title>
				<link>http://uv-curing-area.com/uk/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 09:56:22 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-area.com/uk/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-area.com/images/922aaf5f9a907f1d60ed6f8e999563af.png&#34; alt=&#34;Лампа з галійом для експозиції у технології шовкографії&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій лінії достатньо незначного впливу, щоб порушити якість освітлення під час процесу експозиції – достатньо лише торкнутися кварцової оболонки лампи з галієм. Відбиток пальця стає „фільмом“, який залишається на поверхні лампи одразу після її увімкнення. Ця ділянка поглинає УФ-випромінювання, що призводить до зміни спектрального розподілу світла. Це призводить до нерівномірного освітлення, слабкішого зв’язування компонентів емульсії та прискореного завершення терміну служби лампи: інтенсивність випромінювання різко знижується, а термін служби скорочується.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що має значення з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Лампи з галієм для процесу експозиції потребують точно контрольованого спектрального профілю. Необхідна сильна інтенсивність випромінювання при довжині хвилі 365 нм, з контрольованим зростанням інтенсивності ближче до 405 нм. Така форма спектру обрана для того, щоб вона відповідала діапазону поглинання поширених фотоініціаторів, що дозволяє швидко зв’язувати компоненти емульсії без їх надмірного затвердіння. Ми вимірюємо інтенсивність випромінювання у формі максимальної інтенсивності (мВт/см²) та енергетичну щільність (мДж/см²) на рівні площини експозиції. Дихроїчне покриття рефлектора налаштовується так, щоб зберігати баланс довжин хвиль.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Лампа з іодидом галію для друку на склі</title>
				<link>http://uv-curing-area.com/uk/posts/gallium-iodide-lamp-for-glass-print/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 07:37:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-area.com/uk/posts/gallium-iodide-lamp-for-glass-print/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-area.com/images/5ab70dc405153ee30ed1ab474292099c.png&#34; alt=&#34;Лампа з іодидом галію для друку на склі&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На скляних поверхнях, коли чорнило не встигає висохнути, це не завжди є проблемою самого складу чорнила. Частіше це пов’язано з неузгодженістю спектру світла. Лампи на основі галій-йодиду вирішують цю проблему, випромінюючи УФ-світло, яке збігається з довжиною хвилі поглинання фотоініціаторів у спеціальних чорнилах для скла. Це дозволяє досягти швидкого зв’язування молекул чорнила без нагрівання самої поверхні.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Важливою є також спектральна расподілена потужність лампи. Лампи на основі галій-йодиду мають максимум опромінювання при довжині хвилі 400–420 нм, а їхня потужність залишається високою в діапазоні 380–450 нм. Зменшення кількості УФ-світла короткої довжини хвилі зменшує кількість озону та теплове навантаження, водночас забезпечуючи достатню кількість енергії для активації фотоініціаторів та здійснення процесу зв’язування молекул. Це призводить до стабільного процесу висихання – постійної інтенсивності опромінювання та передбачуваної енергетичної щільності на всій довжині поверхні.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
